图片由桑迪亚国家实验室提供
近半个世纪以来，硅一直是世界科技繁荣的核心，但是微处理器制造商几乎把它的寿命都榨干了。目前用于制造微处理器的技术将在2005年左右达到极限。到那时，芯片制造商将不得不寻求其他技术来填补更多空白晶体管在硅上制造更强大的芯片。许多人已经在观望极端的紫外线光刻技术(EUVL)作为一种延长硅的寿命的方法，至少到这个十年结束。
目前用于在芯片上封装越来越多晶体管的工艺称为deep-ultraviolet光刻这是一种类似摄影的技术，通过透镜聚焦光线，在硅片上雕刻电路图案。制造商担心，由于物理定律的介入，这项技术可能很快就会出现问题。
广告
使用极端的紫外线(EUV)光在硅片上刻制晶体管，将导致微处理器的速度比当今最强大的芯片快100倍，以及存储容量有类似增长的存储芯片。在本文中，您将了解目前用于制造芯片的光刻技术，以及EUVL如何从2007年左右开始将更多的晶体管挤到芯片上。18新利最新登入
